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半导体光刻加工实验室服务为先 半导体微纳

来源:半导体研究所 更新时间:2023-02-01 09:54:39

以下是半导体光刻加工实验室服务为先 半导体微纳的详细介绍内容:

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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一

正性光刻胶主要应用于腐蚀和刻蚀工艺,而负胶工艺主要应用于剥离工艺(lift-off)。

光聚合型,可形成正性光刻胶,是通过采用了烯类单体,在光作用下生成自由基从而进一步引发单体聚合,生成聚合物的过程;光分解型光刻胶可以制成正性胶,通过采用含有叠氮醌类化合物的材料在经过光照后,发生光分解反应的过程。光交联型,即采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,从而起到抗蚀作用,是一种典型的负性光刻胶。按照应用领域的不同,光刻胶又可以分为印刷电路板(PCB)用光刻胶、液晶显示(LCD)用光刻胶、半导体用光刻胶和其他用途光刻胶。PCB 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低,而半导体光刻胶代表着光刻胶技术进水平。

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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

专注微纳光学,积极拓展产品应用。公司深耕微纳光学领域,从微纳光学关键制造 设备起步,通过自主研发,外部并购等途径,建立了覆盖微纳光学主要应用领域的 研发、制造体系。在底层技术的支撑下,相继开发出了多系列的光刻 机、压印设备,构建完备的维纳光学设备集群,陆续推出公共安全材料、新型 印刷材料、导光材料、中大尺寸电容触控模组和特种装饰膜等产品,同时正在研发 适用于 AR 显示的光波导镜片等新一代产品。

微纳光学设计与制造,三大事业群齐头并进。公司拥有丰富的微纳光学设计经验, 以及光刻和纳米压印设备自主设计制造能力,以此支撑公共安全和新型印材、反光 材料和消费电子新材料三大产品事业群。未来公司还将持续加大 AR 眼镜光波导镜 片、全息光场 3D 显示、微透屏下指纹等项目的研发投入,深入挖掘微纳光学智能 制造等应用领域,持续推进研发技术成果转化为市场竞争力。

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光刻掩膜版,也通常称为掩膜板,它是我们在微纳加工技术中常用的光刻工艺中使用的图形的母版。

通常对掩膜版的基本求如下:

(1)精度高:图形尺寸准确,符合设计要求,且不发生畸变。

(2)套刻准:应当保证整套掩模版中的各个次版能依次套住,套准误差尽量小。

(3)反差强:图形黑白域之间的反差要高,一般要求在2.5以上。边缘光滑,刺,过渡区要小(即“黑区”应尽可能陡直地过渡到“透明区”)。

(4)耐磨损:版面平整、光洁、无和划痕,坚固耐用且不易变形。

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以上信息由专业从事半导体光刻加工实验室的半导体研究所于2023/2/1 9:54:39发布

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广东省科学院半导体研究所
主营:深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻

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