微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
在光刻过程中可能会出现光刻胶未涂满衬底的异常,主要原因可能以下几个:滴胶量不、胶液偏离衬底中心、滴胶是有气泡、滴胶是有“倒角”,主要的叫绝方法有:增加滴胶量、调整匀胶机水平位置、调整滴胶位置、在“倒角”处滴胶、消除“倒角”。
光刻胶要有极i好的稳定性和一致性,如果质量稍微出点问题,损失将会是巨大的。去年2月,某半导体代工企业因为光刻胶的原因导致晶圆污染,报废十万片晶圆,直接导致5.5亿美元的账面损失。除了以上原因外,另一个重要原因是,经过几十年的发展,光刻胶已经是一个相当成熟且固化的产业。2010年光刻胶的专i利出现井喷,2013年之后,相关专i利的申请已经开始锐减。市场较小,技术壁垒又高,这意味着对于企业来说,发展光刻胶性i价比不高,即便研发成功一款光刻胶,也要面临较长的认证周期,需要与下游企业建立合作关系。
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负胶光刻的基本流程:衬底清洗、前烘以及预处理、涂胶、软烘、曝光、后烘、显影、图形检查。
日本能把持光刻胶这么多年背后的深层次逻辑是什么?究其原因,主要是技术和市场两大壁垒过高导致的。首先,光刻胶作为半导体产业的基础材料,扮演着极其重要的角色,甚至可以和光刻机相媲美,但市场规模却很小。2019年的全i球光刻胶市场的规模才90亿美元,不及一家大型IC设计企业的年营收,行业成长空间有限,自然进入的企业就少。另一方面,光刻胶又是一个具有极高技术壁垒的产业。由于不同的客户会有不同的应用需求,同一个客户也有不同的光刻应用需求。导致光刻胶的种类极其繁杂,必须通过调整光刻胶的配方,满足差异化应用需求,这也是光刻胶制造商较中心的技术。
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专注微纳光学,积极拓展产品应用。公司深耕微纳光学领域,从微纳光学关键制造 设备起步,通过自主研发,外部并购等途径,建立了覆盖微纳光学主要应用领域的 研发、制造体系。在底层技术的支撑下,相继开发出了多系列的光刻 机、压印设备,构建完备的维纳光学设备集群,陆续推出公共安全材料、新型 印刷材料、导光材料、中大尺寸电容触控模组和特种装饰膜等产品,同时正在研发 适用于 AR 显示的光波导镜片等新一代产品。
微纳光学设计与制造,三大事业群齐头并进。公司拥有丰富的微纳光学设计经验, 以及光刻和纳米压印设备自主设计制造能力,以此支撑公共安全和新型印材、反光 材料和消费电子新材料三大产品事业群。未来公司还将持续加大 AR 眼镜光波导镜 片、全息光场 3D 显示、微透屏下指纹等项目的研发投入,深入挖掘微纳光学智能 制造等应用领域,持续推进研发技术成果转化为市场竞争力。
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光刻掩膜版清洗方法
掩膜版因为称光罩,是光刻过程中的一个工具,关于掩膜版的清洗方法多样,掩膜版厂家所提供的的清洗方法是用饱和的NaOH溶液浸泡5min, 用去离子水冲洗,然后用50%泡5min,用去离子水冲洗,氮气吹干。
当然也有专门的设备,一般先使用掩膜版清洗液,将掩膜版放入掩膜板清洗机边冲洗边旋转,将污染颗粒冲洗干净。之后高速旋转甩干。掩膜板清洗机可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。
1.掩膜版RCA清洗方法
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以上信息由专业从事数字光刻工艺服务的半导体研究所于2023/2/4 12:35:02发布
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