广州磁铁 派瑞林询价咨询 菱威真空镀膜工厂 [菱威纳米)7b079ef]"内容： 目前使用的Parylene主要有Parylene N，Parylene C和Parylene D三种，其共同点是高度惰性与高纯度，而每一种型号又有各自不同特点：Parylene N 具有很高的击穿强度，同时具有与频率无关的低介电常数；Parylene C提供了的电气特性和物理特性的组合，包括潮热环境和腐蚀性气体环境下的低渗透率；Parylene D 通过高温下优良的物理和电性能改善了热稳定性。Parylene HT是具备上述三种材料优点的一种组合材料。下面主要以 Parylene N和 Parylene C为例，介绍 Parylene的主要特性。
目前，几乎任何材料都可以通过真空镀膜工艺涂覆到其他材料的表面上，这为真空镀膜技术在各种工业领域中的应用开辟了更加广阔的前景。
用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺，不但能节省大量的摸材和降低能耗，而且还会消除湿法镀膜中所产生的环境行染。因此国外在钢铁零件涂镀防瘸层和保护源方面，已采用真空搜膜工艺来代替电镀工艺。在冶金工业中，为钢铁和带钢加镀铝防护层已很普遍;在机械制造业中，真空搜膜工艺用于改变改变某些加工工艺和节约贵重的原材料，如飞机浔轮发动机的叶片已经不用价h格昂贵的妤高温金属制造，而是采用价格低廉易加工材料，成形后再用真空被膜的方法在叶片表面上力镀耐高温，耐南蚀的防护层。
首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层C在微通道上，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，在其上制作金电极，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（Parylene）涂层微通道。通过控制（Parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得很好的派瑞林涂层微通道，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。
以上信息由专业从事磁铁 派瑞林的菱威纳米于2024/7/4 8:12:14发布
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