化学抛光的应用范围也很广泛：通常可以根据金属材质及性能的不同，有钢铁化学抛光处理工艺，不锈钢化学抛光处理工艺，铜及铜合金化学抛光处理工艺，铝及铝合金化学抛光处理工艺，化学抛光处理工艺以及镍及镍合金化学抛光处理工艺。这些金属的化学抛光的基本原理都是一样的。
通过以上化学抛光的基本原理介绍，我们可以了解到化学抛光其实是一种人为控制的特殊的化学腐蚀，这种选择性腐蚀主要是靠化学抛光液形成黏液膜产生的。常用的化学抛光液有：不锈钢化学抛光液，铜材化学抛光液，铝材化学抛光液。
化学抛光是在不供电情况下产生抛光效果，其抛光原理与利用电流作用的电解抛光在本质上没有太大差别。
化学抛光是不锈钢常用的表面处理工艺，与电化学抛光工艺相比，其优点是不需要直流电源和特殊夹具，可以抛光形状复杂的零件，生产率很高。
化学抛光溶液的基本组成包括腐蚀剂、氧化剂和水。腐蚀剂是主要成份，如果不锈钢在溶液溶解，抛光便不能进行。氧化剂和添加剂可抑制过程，使反应朝有利于抛光的方向进行。
化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产。化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。
为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。
半导体材料的化学抛光，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、硫酸混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。
以上信息由专业从事化学抛光加工公司的棫楦不锈钢表面处理于2025/1/7 17:06:10发布
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